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          CEW-2000型半軸熒光磁粉探傷機


          產品詳情

          設備名稱:

          CEW-2000型半軸熒光磁粉探傷機

          概述:

          CEW-2000型半軸熒光磁粉探傷機系機電一體式半自動熒光磁粉探傷設備,由電源控制系統、夾持磁化系統、磁懸液系統、熒光系統等幾大部分組成。適用于以濕式磁粉法檢測由鐵磁性材料制成的小型管、軸棒類等零件的表面及近表面因鑄造、鍛造、加工、疲勞等各種原因引起的裂紋和各種細微缺陷。

              本設備采用手動、自動兩種運行方式,由可編程控制器(PLC)集中控制。手動時,可進行每個功能的單步獨立操作;自動時,設備自動執行PLC內部程序,工件上料到位夾緊后,按“啟動”鍵即可自動執行轉動噴淋——磁化——轉動觀察等一系列動作。周向磁化采用直接通電,縱向磁化采用兩組線圈,具有良好的磁化效果。復合磁化在工件上形成旋轉磁?。淮渦勻轎幌允敬偶#哂薪細叩墓ぷ饜?。

          主要技術參數:

          1、 周向磁化電流:AC 0-2000A有效值,連續可調;

          2、 縱向磁化磁勢:AC 0-12000AT有效值,連續可調,

                              DC 0-6000AT半波兩倍于平均值, 連續可調;

          3、 磁化靈敏度:15/50A 1型試片顯示清晰;

          4、 暫載率:≥30%;

          5、 電極間距: 400-1100mm,連續電動可調;

          6、 工作方式:手動、自動運行;

          7、 磁化方式:周向、縱向、復合磁化;

          8、 電極間距調整方式:電動;

          9、 夾緊方式:氣動;

          10、 退磁方式:自動衰減式退磁;

          11、 周向退磁電流:AC 2000-0A,有效值,連續可調,

          縱向退磁磁勢:AC 12000-0AT,有效值,連續可調,

                          DC 6000-0AT,平均值,連續可調;

          12、 交流充退磁效果:≤160A/M(0.2mT);

          13、 紫外線強度:距光源380mm工件表面處≥1000μW/㎝2;

          14、 電源:三相四線380V±10% 50HZ      最大瞬時100A;

          15、 外形尺寸:2200(長)×700(寬)×1600(高)mm;

          16、 重量:約1000Kg。

          探傷原理探傷原理:

          周向磁化采用直接通電,電流沿工件軸向通過,在工件上產生周向磁場,假如存在與磁通線相交的裂紋或近表面缺陷,則在裂紋兩側立即產生N和S兩磁極,部分磁通進入附近的空間,形成能吸附磁粉和裂紋指示的泄漏磁通場,由此可檢測工件上的縱向裂紋。用線圈法對工件縱向磁化,產生軸向磁?。恚杉觳夤ぜ系鬧芟蛄鹽?。同時施加周向和縱向磁化電流,即復合磁化,在工件表面和近表面形成交變的旋轉的矢量磁?。諏ㄌ繳思觳槭保杉觳夤ぜ礱婧徒礱娓鞲齜較虻牧鹽坪腿畢?。